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2氧化硅生产技术设备

2氧化硅生产技术设备

【会议通知】2021年全国二氧化硅材料技术创新与高端应用

2021年5月7日工业上广泛应用的二氧化硅材料，其原料由于制备工艺或来源不同，有石英粉、硅微粉、白炭黑、微硅粉等称呼。一般来说，行业上认为石英粉是以石英原矿通过目前，沉淀法制备二氧化硅技术包括以下几类：（1）在有机溶剂中制备高分散性能的二氧化硅；（2）酸化剂与硅酸盐水溶液反应，沉降物经分离、干燥制备二氧化硅；（3）碱金纳米二氧化硅生产工艺流程合集百度文库

二氧化硅的生产方法和制作工艺流程，常用原料有哪些百家号

1 天前 1 将硅酸盐溶液与酸或碱性吸收剂混合，使硅酸盐中的硅酸根离子反应生成硅酸沉淀。 2 将硅酸沉淀洗涤、过滤、干燥，得到二氧化硅产品。沉淀法的优点是工艺简单、 2017年5月30日超纯二氧化硅可以用于生产超纯石英玻璃、石英坩埚、大口径石英管、集成电路芯片，制造新型电光源、通信用的光导纤维、激光器、光学仪器等一系列高新技术自主超纯二氧化硅（SiO2）工艺研发成功创新中国产业

2020全国二氧化硅材料交流会圆满召开——扫清阴霾，迎接阳光

2020年7月6日主办方精心安排的 17个石英粉、硅微粉、白炭黑、玻璃微珠等生产、检测和应用相关的技术报告，吸引了来自全国各地二氧化硅材料相关产业逾 200 位企业 2023年6月19日凝胶法二氧化硅粉体包覆改性设备：技术原理和应用前景凝胶法二氧化硅粉体包覆改性设备是一种用于提高二氧化硅粉体表面性能的新型设备。通过凝胶法，在凝胶法二氧化硅粉体包覆改性设备：技术原理和应用前景

走近名企天然与合成，日本旭硝子的那些二氧化硅基

2022年3月25日日本AGC,即旭硝子株式会社，从玻璃原料纯碱的自主制造起家，其无机材料业务如今已经拓展到功能性二氧化硅、电子设备用磨料、各种电池材料等领域，公司性质也早已由最初的玻璃制造商蜕变为全球气相法二氧化硅与金属氧化物分散液自1953年以来，赢创的分散液化学技术一直以气相法二氧化硅为基础。如今，我们提供适合不同应用的多种分散液，借助创新技术制造而成，气相法二氧化硅与金属氧化物分散液 Evonik Industries

知乎专栏

2022年10月4日 1本发明属于硅材料技术领域，具体涉及一种氧化亚硅的生产设备及方法。背景技术： 2随着电池行业对锂电池容量需求不断增加，硅基负极材料因具有高克容量和低电位等优势，有望成为锂电池下一代负一种氧化亚硅的生产设备及方法与流程 X技术网

知乎专栏随心写作，自由表达知乎

2024年3月12日设备目录（第二批）》解读近日，应急管理部制定发布了《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批）》（以下简称《目录》）。现就有关内容解读如下：一、《目录》制定背景中共中央办公厅、国务院办公厅印发的《关于全面加强危险《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批

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低压炉主要实现不同类型的薄膜在晶圆表面的沉积工艺，主要是多晶硅，氮化硅，氧化硅等薄膜。低压设备分为低压力化学气相沉积和原子层沉积。【常压设备】主要应用工艺是氧化、退火和合金，炉管的工作温度为 300~ 110 0 度，压力为一个标准大气压，一般使用氢气加氧气，或者氮气等。本发明涉及一氧化硅生产设备技术领域，具体涉及一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备。背景技术：氧化亚硅，又名一氧化硅，是黑棕色到黄土色无定形粉末，白色立方晶体，结构为空间网状，不会自燃，不溶于水，熔点大于1702摄氏度，沸点是1880一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备的制作方法

一种一氧化硅连续生产的设备装置的制作方法

2018年8月4日本实用新型属于化工领域，具体是一种一氧化硅连续生产的设备装置。背景技术随着新能源汽车的快速发展，需要对锂离子电池的性能进行进一步提升，从而对锂离子电池材料提出了更高的要求，其中一氧化硅材料一直是人们研究的重点方向。尽管一氧化硅材料具有良好的电化学性能，然而一氧化硅 2024年3月12日附件：《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批）》条款释义一、酸碱交替的固定床过氧化氢生产工艺过氧化氢（H2O2）水溶液通常会缓慢分解生成水和氧气，但在碱性、加热或遇杂质的条件下其稳定性会变差，分解速度加快，甚至会引解读+条款释义！《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备

院士领衔技术攻关，国内首条吨级介孔氧化硅新结构生产线落成

2024年5月23日 5月22日，国内首条吨级介孔氧化硅新结构生产线落成仪式在江苏常州举行，我国介孔材料规模化制备及产业化应用掀开新的一页。澎湃新闻（www 2024年6月6日干氧氧化硅与氧发生反应，氧化层不断朝向基底层的移动。干法氧化需在850至1200℃的温度下进行，生长速率较低，可用于MOS绝缘栅极生长。在需要高质量、超薄硅氧化层的情况下，干法氧化相较于湿法氧化是优选方案。干法氧化能力：15nm~300nm。 2湿氧化硅片(silicon oxide wafer) 先进电子材料与器件校级平台

二氧化钛溶胶的硅溶胶的生产工艺技术前沿新闻中

2018年1月15日二氧化钛溶胶的硅溶胶的生产工艺 1 二氧化钛溶胶 ①将F101中的氢氧化钠按计量泵入D101中。 ②再将中性四氯化钛中加入D101，经搅拌混合处理得二氧化钛浆液。 ③经过L101过滤浆液以除 2023年5月9日现有二氧化硅中空微球制备技术的投资成本高、设备生产率低、控制难度大，无法在工业规模上对其特有的纳米结构进行精准调控，严重限制了中空微球在高端产业中的应用。本团队基于全新的中空结构导二氧化硅中空微球的产业化生产与结构调控关键技术

工业硅生产技术操作规程百度文库

工业硅生产技术操作规程（2）硅石采用颚式破碎机或人工破碎，圆筒筛筛分、水洗，破碎中应挑选出不合格硅石和杂物；（3）油焦采用机械破碎，在上料过程中人工将大块料打碎到破碎机进料口所要求的粒度。 2破碎机（1）开车前认真检查设备，如有故障或 2024年3月15日应急厅〔2024〕86号各省、自治区、直辖市应急管理厅( 局),新疆生产建设兵团应急管理局, 有关中央企业:为深入贯彻习近平总书记关于安全生产重要指示批示精神,认真落实中共中央办公厅、国务院办公厅《关于全面加强危险化学品安全生产工作的意见》和应急管理部办公厅关于印发《淘汰落后危险化学品安全生产

引起热潮的CVD法硅碳负极新工艺，有何玄机？粉体资讯

2023年11月23日从上述分析可以看出，这两种率先产业化的技术路线都存在一些“症结”，就在硅基负极材料的进一步提升面临瓶颈的时候，新一代技术——采用CVD法的气相沉积硅碳技术应运而生，很快便掀起热潮，成为了当今锂电池负极材料市场的“新宠”。新一代CVD法硅硅的制取简介无定型硅可以通过镁还原二氧化硅的方式制得。实验室里可用镁粉在赤热下还原粉状二氧化硅，用稀酸洗去生成的氧化镁和镁粉，再用氢氟酸洗去未作用的二氧化硅，即得单质硅。这种方法制得的都是不够纯净的无定形硅，为棕黑色粉末硅的制取及硅片的制备工业硅金属百科

一种一氧化硅连续生产的设备装置的制作方法

2018年8月4日本实用新型属于化工领域，具体是一种一氧化硅连续生产的设备装置。背景技术随着新能源汽车的快速发展，需要对锂离子电池的性能进行进一步提升，从而对锂离子电池材料提出了更高的要求，其中一氧化硅材料一直是人们研究的重点方向。尽管一氧化硅材料具有良好的电化学性能，然而一氧化硅本发明涉及高纯氧化亚硅的制备技术领域，具体地说是中频感应加热方式制备高纯氧化亚硅的方法及设备。背景技术氧化亚硅微粉因极富有活性，可作为精细陶瓷如氮化硅、碳化硅等合成原料；在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上，可作为光学玻璃和半导体材料；氧化亚硅还可用于中频感应加热方式制备高纯氧化亚硅的方法及设备与流程 X

《国家工业资源综合利用先进适用工艺技术设备目录（2021

2021年12月16日序号工艺技术设备名称工艺技术设备简介关键技术及主要技术指标具体适用范围利用。13 钒渣提钒工艺中采用立窑氧化焙烧技术设备及卸料送料设备主要包括焙烧立窑、双层卸料机、偏心轴盘式送料机等设备，以含钒废渣为原料，以天然气为燃2022年10月27日 ”益阳高新区企业湖南金硅科技有限公司易旭博士介绍道。据了解，湖南金硅科技有限公司是2020年才在益阳高新区东部产业园成立的一家专业研发、生产和销售高性能锂电池用石墨、硅基负极材料及其前驱体的高新技术企业。益阳高新区企业湖南金硅科技：做锂电池负极材料“小巨人

一种生产氧化亚硅的方法及装置与流程

2018年11月16日本发明涉及氧化亚硅领域，具体而言，涉及一种生产氧化亚硅的方法及装置。背景技术目前，氧化亚硅(SiOx)是重要的电子和光学材料和锂离子电池负极添加剂。传统上生产氧化亚硅的方法是将单质硅和二氧化硅同摩尔比例混合，然后研磨成微米量级的粉末(颗粒越小混合越均匀，相互间接越紧密越有 2005年8月29日 2000年以来，我国有几个设计院和研究所先后研制了10000KVA～12500KVA工业硅电炉,同时引进国外技术建设的最大全封闭式工业硅电炉为25500kVA。至此使中国在炉型结构、生产技术装备及总体水平方面迈上了大型电炉技术的新我国工业硅电炉技术装备的现状及发展趋势（三）

[半导体前端工艺：第二篇] 半导体制程工艺概览与氧

2022年12月21日从图中可以看出，采用湿法和干法氧化时，晶圆上侧（100）方向的氧化膜生长速度相对较慢，而侧面（110）方向的氧化速度较快。由于100方向的硅原子排列更稠密，干法或湿法氧化时，氧化气体很 2017年7月28日 HYPERLINK /threadhtml 白炭黑概述及其生产工艺(一)硅在自然界中主要以二氧化硅和硅酸盐的状态存在，一切植物皆含有少量的二氧化硅，动物体内的结缔组织中亦含有二氧化硅。硅在地壳中的含量是绝对丰富的，硅在地壳中的重量百分数为276%二氧化硅及其生产工艺概述doc 原创力文档

一文了解钛白粉生产工艺技术资讯中国粉体网

2021年7月1日钛白粉生产方法有硫酸法、氯化法、盐酸法等，本文主要介绍这三种生产方法。 1 氯化法钛白粉生产工艺流程氯化法被认为是当今钛白粉制取技术的发展趋势，在利用该技术生产钛白粉时，需要将其生产流程分成三个阶段：氯化阶段、氧化阶段以及后处理工 2019年4月3日本发明属于氧化亚硅的技术领域，具体涉及一种化学气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法。背景技术氧化亚硅，也有人直接称为硅氧化物，并用SiOx(0＜x＜2)表示。由于氧化亚硅可提供较大的电池容量和较少的体积膨胀，因此，可用于制备性能优良的锂离子电池负极材料。氧化亚硅最简单的制备方式为Si 化学气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法与流程

国家能源研发中心（重点实验室）工作巡礼（四十九）

2012年9月11日二是承担的国家“863”项目“粉煤灰提取氧化硅生产高填料文化用纸技术”完成了箱纸板加填活性硅酸钙造纸实验室试验，填料比例达到50%以上。完成印刷文化用纸加填活性硅酸钙造纸实验室试验，填料比例达到30%以上。2023年11月11日在细分的技术路线中，目前有三条路线已经得到产业化应用，条是研磨法纳米硅碳路线，第二条是硅氧路线（一代硅氧和预锂化硅氧），第三条是CVD气相沉积硅碳路线。研磨法主要的问题就是粒径较大，且容易引入杂质，纯度较低，且粒径分布不能有技术气相沉积硅炭电子工程专辑

国内外15家二氧化硅生产企业介绍艾邦高分子艾邦智造官网

2 天之前公司拥有亲水性气相二氧化硅和疏水性气相二氧化硅两大系列产品，也可批量生产气相二氧化钛及气相三氧化二铝。改性气相法纳米二氧化硅公司设立了中国氟硅行业气相二氧化硅创新孵化基地和省级企业技术中心，和全世界最大的高分子学院—四川大学高分子学院共同成立了功能纳米粉体材料 2022年8月7日 TOPCon 背表面创新的采用了一层 1~2nm 厚的氧化硅形成隧穿氧化层，然后在沉积一层磷掺杂的多晶硅层。这种结构通过四种机制对载流子产生选择性：①重掺杂的多晶硅层与衬底的功函数不同，在界面处产生积累层，积累层阻止空穴进入氧化层，帮助电子【技术贴】隧穿氧化层及多晶硅层的设备 TOPCon 背表面

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1 天前来源：半导体材料与工艺原文始发于微信公众号（艾邦半导体网）： TSV 关键工艺设备特点及国产化展望先进封装设备类似前道晶圆制造设备，供应商受益先进封测产业增长。随着先进封装的发展，Bumping (凸块)、Flip (倒装) 、TSV 和 RDL (重布线)等新的连接形 TSV 关键工艺设备特点及国产化展望艾邦半导体网

半导体工艺(二)保护晶圆表面的氧化工艺三星半导体官网

2022年2月14日可以在晶圆上形成薄膜的氧化工艺方式有通过热进行的热氧化 (Thermal Oxidation),等离子体增强化学气相沉积法 (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)和电化学阳极氧化等等。其中,最常用的方法是热氧化法,即在800~1200°C的高温下形成一层薄而均匀的硅氧化膜 2022年12月12日因为氧化硅表面不是100%可以利用的，它发生反应的是表面的硅羟基，所以根据硅羟基来预测表面改性剂，才是比较精确的方法。那关键问题就是要精确测定粉体表面硅羟基的类型及含量，用于精确预测表面改性剂的用量及接枝率。国内球形二氧化硅表面改性亟待解决的关键问题——访深圳

硅的热氧化华林科纳（江苏）半导体设备有限公司

2021年11月15日热氧化的目的：Si晶片在大气中自然氧化，表面非常薄，但被SiO2膜复盖。 Si和在其上产生的SiO2膜的密合性很强。在高温下进行氧化，会产生厚而致密且稳定的膜。 Si的熔点为1412℃，但SiO2的熔点为1732℃，复膜具有非常高的耐热性。并不是所有的金属和半导体 2019年7月3日本发明属于氧化亚硅技术领域，具体涉及一种气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法。背景技术近年来锂二次电池具有较镍镉电池或镍氢电池更高的能量密度，且每单位重量的能量密度更高。锂离子电池由于具有高电压、高能量密度和长循环寿命的优势，成为应用最广的电池之一。随着互联网时代的到来气相沉积炉及生产氧化亚硅的方法与流程

一文看懂半导体刻蚀设备技术壁垒及全球市场竞争格局导读

2024年3月4日导读刻蚀设备是晶圆制造第二大设备，重要性仅次于光刻机，占整体前道设备价值量的22%。随着多重掩膜、大马士革工艺应用以及存储芯片内3D叠堆等技术加速渗透，刻蚀设备在半导体制造中的需求量和重要性不断上升。逻辑芯片不断突破，先进工艺刻蚀次数也不断提升,对刻蚀设备的数量和质量2023年1月27日球形硅微粉生产技术球形硅微粉技术是以价格低廉的天然优质粉石英矿物为基本原料，现采用两种主要工艺制成：1、采用溶胶凝胶技术，在分散剂和球形催化剂存在的条件下，制备出符合电子封装材料要求的高纯球形纳米非晶态硅微粉；2、采用火焰法或离子火焰法熔融成球型的非晶态硅微粉。火焰熔融法球形粉末（硅微粉二氧化硅氧化铝石英）球化炉

凝胶法二氧化硅粉体包覆改性设备：技术原理和应用前景

2023年6月19日二是设备能够有效控制包覆层的厚度和组成，提高了二氧化硅粉体的稳定性和性能。三是凝胶法包覆改性设备能够广泛应用于领域，例如化工、材料和医药等行业。四是凝胶法包覆改性设备的应用前景广阔，有望为相关产业带来重大的技术突破和经济效益。知乎专栏

一种氧化亚硅的生产设备及方法与流程 X技术网

2022年10月4日 1本发明属于硅材料技术领域，具体涉及一种氧化亚硅的生产设备及方法。背景技术： 2随着电池行业对锂电池容量需求不断增加，硅基负极材料因具有高克容量和低电位等优势，有望成为锂电池下一代负知乎专栏随心写作，自由表达知乎

《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批

2024年3月12日设备目录（第二批）》解读近日，应急管理部制定发布了《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批）》（以下简称《目录》）。现就有关内容解读如下：一、《目录》制定背景中共中央办公厅、国务院办公厅印发的《关于全面加强危险低压炉主要实现不同类型的薄膜在晶圆表面的沉积工艺，主要是多晶硅，氮化硅，氧化硅等薄膜。低压设备分为低压力化学气相沉积和原子层沉积。【常压设备】主要应用工艺是氧化、退火和合金，炉管的工作温度为 300~ 110 0 度，压力为一个标准大气压，一般使用氢气加氧气，或者氮气等。芯恺半导体设备(徐州)有限责任公司产品服务

一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备的制作方法

本发明涉及一氧化硅生产设备技术领域，具体涉及一种大产量低成本生产氧化亚硅的汽化沉积设备。背景技术：氧化亚硅，又名一氧化硅，是黑棕色到黄土色无定形粉末，白色立方晶体，结构为空间网状，不会自燃，不溶于水，熔点大于1702摄氏度，沸点是年8月4日本实用新型属于化工领域，具体是一种一氧化硅连续生产的设备装置。背景技术随着新能源汽车的快速发展，需要对锂离子电池的性能进行进一步提升，从而对锂离子电池材料提出了更高的要求，其中一氧化硅材料一直是人们研究的重点方向。尽管一氧化硅材料具有良好的电化学性能，然而一氧化硅一种一氧化硅连续生产的设备装置的制作方法

解读+条款释义！《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备

2024年3月12日附件：《淘汰落后危险化学品安全生产工艺技术设备目录（第二批）》条款释义一、酸碱交替的固定床过氧化氢生产工艺过氧化氢（H2O2）水溶液通常会缓慢分解生成水和氧气，但在碱性、加热或遇杂质的条件下其稳定性会变差，分解速度加快，甚至会引 2024年5月23日 5月22日，国内首条吨级介孔氧化硅新结构生产线落成仪式在江苏常州举行，我国介孔材料规模化制备及产业化应用掀开新的一页。澎湃新闻（www 院士领衔技术攻关，国内首条吨级介孔氧化硅新结构生产线落成